本產品配合HNO3/HF混酸體系使用,適用于槽式或鏈式多晶硅太陽電池酸制絨工藝。能有效提高多晶絨面均勻性,降低絨面放射率,擴寬工藝窗口減小工藝控制難度;能夠有效避免滾輪印、白點、黑絨的出現;后道工藝匹配成功后可實現0.1%絕對效率提升。適用于槽式或鏈式設備制絨設備;
產品特點
絨面均勻性好:絨面起伏小,避免深孔出現。
絨面凹坑密度大,光吸收效果好。
腐蝕量相同的情況下,使用HMC-330制絨添加劑制備的絨面反射率可降低2~4%。
工藝窗口寬:腐蝕量增加,發射率無明顯變化。
有效抑制黑絨。
擴散方阻均勻性好。
PECVD鍍膜均勻性好。
注意事項
貯存過程中防止水分和雜油的混入,否則有可能導致產品變質。
勿食,如不慎濺入眼內,請立即用清水沖洗,必要時交由醫生處理。