單晶制絨設備特點

　　單晶硅片在一定濃度范圍的堿溶液中被腐蝕時是各向異性的，不同晶向上的腐蝕速率不一樣。

　　利用這一原理，將特定晶向的單晶硅片放入堿溶液中腐蝕，即可在硅片表面產生出許多細小的金字塔狀外觀，這一過程稱為單晶堿制絨。不管是單晶硅片還是多晶硅片，都可以用酸或者堿來處理。無論用哪種方法處理，一般情況下，用堿處理是為了得到金字塔狀絨面；用酸處理是為了得到蟲孔狀絨面。不管是哪種絨面，都可以提高硅片的陷光作用。

　　單晶制絨劑主要有EPW(乙二胺、鄰苯二甲酸和水)、TMAH(氫氧化四甲基銨)等，無機腐蝕劑主要有KOH、NaOH、Na2SiO3、Na3PO4等。同時為了優化工藝，常常在堿溶液中加入添加劑，如異丙醇、(NH4)2S2O4、N2H4·H2O等。反應的主要方程式為

　　單晶制絨設備特點：

　　1. 節能設計，相較于同行業設備，配槽量節省10%以上，補液量節省4%以上，用電量節省6%以上，用水量節省7%以上。

　　2. 碎片率≤0.05%，良率99.5% 。         

　　3. 預熱系統，即時熱水供應系統，熱水溫度80°C，換液時間60min內  。   

　　4. 溫控精度±0.5℃。

　　5. 補液量≤100ml時精度±0.5ml，補液量≥100ml時精度±1%。         

　　6. 晶洲自有專利技術循環系統，內置式快速循環盤管系統，可實現20s內快速循環，保證槽體內藥水及溫度的均勻性。

　　7. 快速換液，設備模塊化設計，分級多段控制，支持滾動生產，換液配槽不停機。

　　8. 設備可搭配時創、納鑫、蘇大等行業內多種知名添加劑。

　　9. 操作系統分四級管理操作權限，便于客戶生產管理。